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ZESTRON 诚邀您参加“ 静态清洗和动态清洗”免费中文在线公开课

放大字体  缩小字体 发布日期:2017-10-12  来源:SMT商务通  作者:ZESTRON  浏览次数:11
核心提示:ZESTRON非常荣幸地宣布本年度中文在线公开课6部曲中的末场课程“静态清洗和动态清洗”将于北京时间2017年11月15日下午3:00正式开始
E17-26Asia-ZESTRON Invites You to Attend a Free Training o<em></em>nline Titled Dynamic cleaning and static cleaning全球领先的电子制造业精密清洗产品、清洗工艺解决方案及专业技术培训提供商ZESTRON非常荣幸地宣布本年度中文在线公开课6部曲中的末场课程“静态清洗和动态清洗”将于北京时间2017年11月15日下午3:00正式开始,来自ZESTRON中国区的工艺工程师田剑先生将会分享与电子制造清洗相关的专业知识。本场公开课包含15分钟的问答环节在内,全程45分钟。

授课内容:
清洗工艺的速度和效率对于制造商的日常运作非常重要并直接影响整套系统的清洁率。清洗工艺的生产率受到动态清洗效率和静态清洗效率两个因素的影响,SCR(静态清洗效率)与清洗剂溶解污染物的能力有关。DCR(动态清洗效率)与清洗设备为了帮助污染物加速溶解而表现出的机械能有关。在静态清洗效率和动态清洗效率之间是否存在着某种必然的关联?

本次课程的目标是带领听众一同探索静态清洗效率和动态清洗效率之间的关联,并找到能够提升整体清洗工艺表现的相关工艺参数。

您的收益:
• 迅速便捷,在您的办公桌旁参与培训
• 网络课程,课程内容通过在线视频传播
• 实时互动,遇到问题及时向工艺专家提出疑问
• 精品讲义,课程结束后发出讲义方便您日后参考

授课对象:
该课程的内容特别为电子制造业广大产线操作人员、质量和质控经理、客服及工艺工程师等相关职能人员而专门设计。

如需获取更多相关信息,请通过academy-china@zestron.com 与我们取得联系,您也可以点击此处即刻注册ZESTRON中文在线公开课程。 
 
关键词: ZESTRON 清洗剂
 
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