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ZESTRON 诚邀您参加“去离子水VS清洗剂” 免费中文在线公开课

放大字体  缩小字体 发布日期:2017-08-24  来源:SMT商务通  作者:ZESTRON  浏览次数:482
核心提示:ZESTRON非常荣幸地宣布本年度中文在线公开课6部曲中的第5场课程“去离子水VS清洗剂” 将于北京时间2017年9月6日下午3:00正式开始,来自ZESTRON中国区的应用技术支持工程师刘君君先生将会分享与电化学迁移相关的专业知识
E17-21Asia-ZESTRON Invites You to Attend a Free Training o<em></em>nline Titled  DI water vs chemistry全球领先的电子制造业精密清洗产品、清洗工艺解决方案及专业技术培训提供商ZESTRON非常荣幸地宣布本年度中文在线公开课6部曲中的第5场课程“去离子水VS清洗剂” 将于北京时间2017年9月6日下午3:00正式开始,来自ZESTRON中国区的应用技术支持工程师刘君君先生将会分享与电化学迁移相关的专业知识。本场公开课包含15分钟的问答环节在内,将维时45分钟。

授课内容:
虽然电子元器件的尺寸正在变得越来越小,集成的密度也正在变得越来越高,但行业内仍有部分电子制造商使用去离子水对免洗锡膏进行处理。值得注意的是,去离子水的清洗能力始终存在一定的局限。本次课程将会对比去离子水和化学清洗液在处理元器件表面时表现出来的不同,并阐述为什么随着工艺的改变化学清洗变得越来越重要。

您的收益:
• 迅速便捷,在您的办公桌旁参与培训
• 网络课程,课程内容通过在线视频传播
• 实时互动,遇到问题及时向工艺专家提出疑问
• 精品讲义,课程结束后发出讲义方便您日后参考

授课对象:
该课程的内容特别为电子制造业广大产线操作人员、质量和质控经理、客服及工艺工程师等相关职能人员而专门设计。

如需获取更多相关信息,请通过academy-china@zestron.com 与我们取得联系,您也可以点击此处即刻注册ZESTRON中文在线公开课程。


展会预告:
ZESTRON将在2017年8月29日至31日亮相NEPCON深圳展览会(深圳会展中心1号厅,1N10展台),届时您将有机会与我们的工艺工程师进行面对面沟通。
ZESTRON真诚欢迎您的到来,我们将竭力帮您解决日常生产过程中遇到的困难! 
 
关键词: ZESTRON 清洗剂
 
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