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ZESTRON 诚邀您参加“清洗工艺概览” 免费中文在线公开课

放大字体  缩小字体 发布日期:2016-03-28  来源:SMT之家商务通  作者:ZESTRON  浏览次数:299
核心提示:本次课程将会展示主流清洗工艺的概览,为听众解释不同物理激励方式的原理。这些创新型的解决方案专门设计用于彻底去除有机和无机的污染物残留物,如助焊剂、锡膏及SMT胶水残留等。
全球领先的电子制造业精密清洗产品、清洗工艺解决方案及专业技术培训提供商ZESTRON非常荣幸地宣布本年度中文在线公开课六部曲中的首场课程 “清洗工艺概览” 将于北京时间2016年04月06日下午3:00正式开始,来自ZESTRON中国区的应用技术部门主管、高级工艺工程师王劼先生将会分享与电子制造清洗相关的专业知识。本场公开课包含15分钟的问答环节在内,将维时45分钟。

授课内容
随着时代的发展,行业越来越关注清洗工艺,希望通过优化工艺来获得更高的产品可靠性以及更经济节约的成本方案。本次课程将会展示主流清洗工艺的概览,为听众解释不同物理激励方式的原理,更会解释ZESTRON清洗剂中所包含的核心技术:MPC® (微相清洗技术)和FAST® (快效表面活性剂技术)。这些创新型的解决方案专门设计用于彻底去除有机和无机的污染物残留物,如助焊剂、锡膏及SMT胶水残留等。

您的收益
- 迅速便捷,在您的办公桌旁参与培训
- 网络课程,课程内容通过在线视频传播
- 实时互动,遇到问题及时向工艺专家提出疑问
- 精品讲义,课程结束后发出讲义方便您日后参考

授课对象
该课程的内容特别为电子制造业广大产线操作人员、质量和质控经理、客服及工艺工程师等相关职能人员而专门设计。

如需获取更多相关信息,请通过academy-china@zestron.com 与我们取得联系,您也可以点击此处即刻注册ZESTRON中文在线公开课程。 
 
关键词: ZESTRON 清洗
 
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