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授课内容
对于半导体去助焊剂清洗工艺来说,一套合适的工艺需要能够高效地去除助焊剂残留,同时也必须满足防氧化的要求并对铜、镍铝等敏感金属的表面进行恰当地保护。本次在线公开课将会为听众概述半导体清洗的不同要求并指导听众如何选择一套合适的清洗工艺,另外将介绍专为半导体清洗应用而设计的现代水基清洗工艺技术能够为我们的工作带来的诸多裨益。
授课对象
本次在线公开课程的授课范围面向电子制造行业一线操作人员、制程和质控经理以及生产工艺工程师等。
如需获得与ZESTRON在线公开课的更多内容,请通过info@zestronchina.com与我们取得联系。