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ZESTRON诚邀您参加 — “功率模块清洗工艺”免费在线公开课

放大字体  缩小字体 发布日期:2013-10-10  来源:SMT之家商务通  作者:Zestron  浏览次数:758
核心提示:本次题为“功率模块清洗工艺”的在线公开课程由ZESTRON cademy部门举办,主讲人为ZESTRON欧洲区首席工程师Stefan Strixner,Stenfan将会带来45分钟的英文讲座,其中包含了15分钟的问答环节。
全球领先的电子制造业精密清洗产品、清洗工艺解决方案及专业技术培训提供商ZESTRON非常荣幸地宣布本年度四场在线公开课程中的最后一场讲座将于北京时间10月16日下午3:00开始,本次题为“功率模块清洗工艺”的在线公开课程由ZESTRON @cademy部门举办,主讲人为ZESTRON欧洲区首席工程师Stefan Strixner,Stenfan将会带来45分钟的英文讲座,其中包含了15分钟的问答环节。

授课内容
对于半导体去助焊剂清洗工艺来说,一套合适的工艺需要能够高效地去除助焊剂残留,同时也必须满足防氧化的要求并对铜、镍铝等敏感金属的表面进行恰当地保护。本次在线公开课将会为听众概述半导体清洗的不同要求并指导听众如何选择一套合适的清洗工艺,另外将介绍专为半导体清洗应用而设计的现代水基清洗工艺技术能够为我们的工作带来的诸多裨益。

授课对象
本次在线公开课程的授课范围面向电子制造行业一线操作人员、制程和质控经理以及生产工艺工程师等。

如需获得与ZESTRON在线公开课的更多内容,请通过info@zestronchina.com与我们取得联系。
 
 
 
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