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ZESTRON GT Yeoh将在IPC东南亚2013技术研讨会上发表专题演讲

放大字体  缩小字体 发布日期:2013-11-18  来源:SMT之家商务通  作者:Zestron  浏览次数:440
核心提示:来自ZESTRON南亚区的高级工艺工程师GT Yeoh将于11月20日在泰国曼谷2013 IPC东南亚技术研讨会上发表题为”QFN封装的关键清洗工艺参数”的技术讲座.
ZESTRON南亚区GT Yeoh在IPC东南亚2013技术研讨会上发表器件组装和可靠性相关的专题演讲

电子制造业全球领先的精密清洗产品、技术支持及专业培训提供商ZESTRON很荣幸地宣布来自ZESTRON南亚区的高级工艺工程师GT Yeoh将于11月20日在泰国曼谷2013 IPC东南亚技术研讨会上发表题为”QFN封装的关键清洗工艺参数”的技术讲座.

方形扁平无引脚封装(QFN)或MLF封装是当前电子制造业发展最快的封装方式。由于这些封装设计复杂且具有引脚低的特点,因此在焊接工艺后要彻底去除这些封装件中的助焊剂残留成为了巨大的挑战。GT Yeoh先生将谈及污染物残留可能给产品带来的故障以及深度分析如何有效地对QFN封装件的底部进行清洗。另外,他将分享ZESTRON结合喷淋设备和水基清洗剂对水溶性含铅锡膏及免洗无铅锡膏进行清洗的专项研究,阐述哪些参数将对清洗工艺造成关键影响。

2013 IPC东南亚技术研讨会将于泰国曼谷Miracle Grand Convention Hotel召开,如需在线注册该活动,请访问IPC主页IPC.org.

如需了解更多资讯或开展一次ZESTRON技术中心虚拟参观之旅,欢迎您访问www.zestron.com
 
 
关键词: Zestron 研讨会
 
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