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ZESTRON在2015 年IPC 全国巡回研讨会上海站发表专题演讲

放大字体  缩小字体 发布日期:2015-08-01  来源:SMT之家商务通  作者:Zestron  浏览次数:498
核心提示:传统的检测方法存在着一定的局限性,吴明先生的演讲介绍了一种创新型声学检测技术,能够有效避免清洗液中污染物残留对测试造成的影响,始终提供精确的浓度测定结果
全球领先的电子制造业精密清洗产品、清洗技术支持及培训方案提供商ZESTRON参加了2015年IPC全国巡回研讨会上海站的演讲,在2015年7月17日于上海财大豪生大酒店举办的IPC全国巡回研讨会上海站上,ZESTRON资深工艺工程师吴明先生发表了以“创新型声学检测技术,实现清洗液浓度精确监控”为题的技术演讲。

电子制造业在对高精密器件进行清洗时通常需要检测清洗液的浓度来确保工艺的持续稳定性。为了实现这一目标,业界通常对几个关键参数(如pH值、折光率、电导率等)进行检测,值得注意的是由于清洗液中污染物残留的存在,传统的检测方法存在着一定的局限性,吴明先生的演讲介绍了一种创新型声学检测技术,能够有效避免清洗液中污染物残留对测试造成的影响,始终提供精确的浓度测定结果。

如果您对清洗工艺及浓度监控相关的主题感兴趣,欢迎您参加IPC后续的研讨会活动,我们期待着在深圳、天津、青岛和杭州与您相遇,您也可以通过infoChina@zestron.com与我们取得联系,我们的工艺工程师乐于为您解决您日常工作中的清洗难题。 
 
关键词: Zestron 清洗 声学 检测
 
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