Mentor Graphics公司(NASDAQ:MENT)今日宣布,在北京理工大学光电学院新建一所光电联合实验室。作为双方协议的一部分，明导将资助课程开发、研究生学位课程专业研讨会和相关研究，并使北京理工大学光电学院毕业的学生能深入了解前沿光电技术，如光学邻近校正(OPC)和分辨率增强技术(RET)。

“我们很高兴能在分辨率提升技术的教学和研究方面与明导取得合作，”光电学院联合实验室负责人李艳秋教授说，“随着中国IC产业持续快速发展，新的毕业生应当掌握一些方法和工具，来应对纳米集成电路设计和制造中出现的挑战。我们的联合实验室创建了一个成像及分辨率增强技术物理验证和协同设计平台，开展深亚微米至纳米技术节点集成电路设计和制造相关的 OPC和SMO等RET技术、光刻设备、IC掩模和工艺协同设计与优化技术，支撑教学、研究、学科建设、承担企业及国家项目。作为我们的合作伙伴，明导将提供先进设计软件与技术支持，丰富的实践教学机会和资源等等。”

北京理工大学光电学院在光电技术教育和研究方面颇负盛名，曾参与多项国家研究项目。该学院现有138名教职工，38名教授，1700多名学生。联合实验室预计会取得前沿的研究成果，并突破先进技术的挑战。联合实验室还将同时在学术和工业领域教育和培养学生，并促进集成电路领域的国际交流。

“光学和电子学领域在新一代芯片中融合，光子和电子的结合催生出美妙的新应用。此外，复杂的光学软件允许我们把芯片尺寸做的越来越小，这对半导体行业未来的发展，绝对是至关重要的。”明导亚太区副总裁彭启煌说，“我们的合作将有助于确保光电学院的学生做好准备，以应对将来IC设计和制造领域的挑战。”

关于明导大学计划：
明导大学计划项目提供前沿的设计工具，支持高校课堂教学和学术研究。该计划有助于确保工程专业毕业生进入电子行业时，精通该领域先进的工具和方法。大学计划项目成立于1985年,与世界各地工科院校发展有长期关系,目前在65个国家有超过1400个成员院校。