据 TheElec，SK Hynix 计划在第 6 代（1c 工艺，约 10nm）DRAM 的生产中使用 Inpria 下一代金属氧化物光刻胶（MOR），这是 MOR 首次应用于 DRAM 量产工艺。


消息人士称，SK Hynix 量产的 1c DRAM 上有五个极紫外 (EUV) 层，其中一层将使用 MOR 绘制。他还补充说，“不仅 SK 海力士，三星电子也将追求这类无机 PR 材料。”

查询公开资料获悉，Inpria 是日本化学公司 JSR 的子公司，也是无机光刻胶领域的领导者；而 MOR 则被认为是目前用于先进芯片光刻的化学放大光刻胶（CAR）的下一代产品。

此外，该公司自 2022 年以来就一直与 SK Hynix 合作进行 MOR 研究。SK Hynix 此前曾表示，使用 Sn（基）氧化物光刻胶将有助于提高下一代 DRAM 的性能并降低成本。

TheElec 报道还指出，三星电子也在考虑将 MOR 应用于 1c DRAM，目前三星电子在 1c DRAM 上应用了 6 至 7 个 EUV 层，而美光则只应用了 1 层。